Очищувальна маска GESKE Cleansing Mask 50 мл

Маска для очищення шкіри, до складу якої входять арганова олія та соєвий протеїн, сприяє м'якому виведенню токсинів, підвищуючи еластичність шкіри. Одночасно засіб ефективно бореться з чорними цятками та прищами, допомагаючи досягти рівного та сяючого кольору обличчя. Завдяки збалансованому складу маска делікатно впливає на шкіру, не викликаючи подразнення, і підходить для регулярного застосування в рамках догляду за обличчям.

Діючі інгредієнти

• Олія аргани — інтенсивно зволожує шкіру, зміцнює сполучну тканину, забезпечує антибактеріальний ефект і перешкоджає появі забруднень.
• Соєвий протеїн — ефективно розгладжує та насичує шкіру вологою, а також захищає її від передчасного старіння, викликаного гормональними змінами.
• Олія насіння кунжуту і чорного кмину — знімають запалення, значно підвищують еластичність шкіри, нейтралізують шкідливий вплив вільних радикалів і надають виражений ліфтинг-ефект.

Як використовувати GESKE Cleansing Mask

Нанесіть маску тонким шаром на попередньо очищену шкіру обличчя. Змити водою.

Склад

Aqua, Capric Triglyceride, Kaolin, Glyceryl Stearate Citrate, Glycerin, Cetearyl Alcohol, Isopropyl Palmitate, Sesamum Indicum Seed Oil, Dicaprylyl Ether, Argania Spinosa Kernel Oil, Nigella Sativa Seed Oil, Cetyl Palmitate, Glyceryl Stearate, Sorbitol, Beta-Carotene, Citrus Aurantium Dulcis Peel Cera, Hydrolyzed Soy Protein, Serenoa Serrulata Fruit Extract, Helianthus Annuus Seed Oil, Xanthan Gum, Alcohol, Ascorbic Acid, Ascorbyl Palmitate, Ethylhexylglycerin, Lactic Acid, Octyldodecanol, Tetrasodium Glutamate Diacetate, Tocopherol, Citric Acid, Sodium Hydroxide, Benzoic Acid, Dehydroacetic Acid, Phenoxyethanol, Sorbic Acid, Parfum, Alpha-Isomethyl Ionone, Benzyl Benzoate, Limonene, Ci 40820.

Зроблено в Німеччині.

Об'єм 50 мл.